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技术参数 ：
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型 号 |
CH1030 |
CH1040 |
CH1050 |
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温度范围(℃) |
室温＋10～100 |
室温＋10～100 |
室温＋10～100 |
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温度波动度(℃) |
± 0.05 |
± 0.05 |
± 0.05 |
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控温方式 |
微机温控、PID调节 |
微机温控、PID调节 |
微机温控、PID调节 |
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显示分辨率(℃) |
0.01 |
0.01 |
0.01 |
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内胆容积(L) |
30 |
40 |
50 |
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开口尺寸(长×宽×深(mm) |
310× 280× 230 |
400× 380× 200 |
300× 350× 300 |
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泵循环方式 |
内、外循环 |
内、外循环 |
内、外循环 |
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泵流量(L) |
8 |
8 |
8 |
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功率(KW) |
2.1 |
2.1 |
2.1 |
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工作槽容积 |
400 × 330 × 230 |
490 × 420 × 200 |
520 × 320 × 300 |
♦可选配RS232或RS485通讯接口，实现数据传输进行远距离控制。
♦可以选配程序控温系统，其特点为：
大屏幕液晶显示，软件程序控制，可编辑时间/温度曲线。
多段可编温度、时间程序，控制升温、恒温、降温过程，且升温速度、降温速度可按用户要求设置自动控制。
最多编写储存30个温度/时间段，每个程序可设置0～9999分钟运行时间。
多种参数设定方式:方便快捷的输入键、移位键和增键、减键，设定温度/时间段及其他高级控制参数或直接调储存的温度/时间设定程序。
主要应用领域：
分析仪器:光谱仪、质谱仪、粘度计、旋光仪、发酵装置、旋转蒸发仪等配套使用 。
真空获得及医疗:分子泵、扩散泵、降温毯 、X光机核磁共振加速器等配套使用 。
工业设备及其他:激光设备、真空镀膜设备、生物制药、模具机床、真空炉、焊接机反应釜等配套使用。
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